业务介绍 | |||||||||
业务专长:1、公司法业务:帮助境外投资者在中国境内完成投资项目;为外商投资企业公司、民营企业提供常年法律顾问服务;协助委托人完善公司自治,规范内部管理的各项规章制度,提供经营发展的法律建议;审核对外经营的各种合同和函件,防范企业法律风险;作为委托人的代表参与谈判、处理纠纷、催收货款;为委托人的并购、重组提供法律服务。2、房地产业务:为客户提供建筑施工、房地产…… | |||||||||
2010年4月12日,被告向江苏省南京市钟山公证处申请公证,同日,该公证处出具(2010)宁钟证经内字第2363号公证书。该公证书表明,在“Baidu百度”栏以“替代PT4115”为关键词进行搜索,找到相关网页约5470篇,其中,深圳某公司网页上宣称“特价PAM2862替代PT4115,单价为人民币1.3元”、无锡某公司的网页宣称“AX2015……完全替代PT4115,单价为1.5元”。
依原告申请,本院还向国家知识产权局调取了PT4115集成电路样品芯片1只。依双方当事人申请,本院从宁波比亚迪半导体有限公司调取了生产1360管芯的光刻掩模版15块。
另查明,原告为查询工商登记资料等支付网络信息查询费用620元。
以上事实有下列证据在案为凭:原告提供的布图设计登记证书、上海市科技咨询服务中心(2009)鉴字第14号技术鉴定报告书、被告与华半公司订立的《产品开发协议书》、上海市科技专用统一发票、关于支付技术鉴定费用的说明、电汇凭证、销售合同及增值税发票、出口货物报送单及核销单;被告提供的(2010)宁钟证经内字第2363号公证书、情况说明、南京三联会计师事务所有限公司的宁三联审字(2010)第211号专项审计报告、华半公司的销售情况说明;本院依法调取的原告PT4115布图设计的版图、样品、《PT4115集成电路版图层次说明》、《布图设计结构、技术、功能简要说明》、上海市公安局经济犯罪侦查总队的询问笔录、从宁波比亚迪半导体有限公司调取的生产1360管芯的光刻掩模版;当事人在庭审中的陈述等。
此外,原告还提供了设计、研发及市场推广人员工资记录、PT4115芯片光刻掩模版制作合同及费用发票等,用以证明原告被侵权所受到的损失。被告对工资记录的真实性不予认可,对制版合同及费用与本案的关联性不予认可。本院认为,上述工资记录系原告单方形成,真实性及其与本案的关联尚不能确定;光刻掩模版制作费用系原告正常经营的合理成本或费用,且光刻掩模版并未因被告行为而贬损价值,该费用与因侵权造成的损失没有直接的因果关系,故不予认定。原告还提供了其聘请律师合同及收费清单、律师费用提示支付通知等,用以证明其聘请了律师代理维权,代理费用为199500元,因原告并未提供该费用实际支付的证据,本院将结合其他证据和事实予以综合认定。对原告提供的(2010)深证字第65577号公证书及光盘附件,因原告以此作为布图设计侵权对比的辅助信息,且被告自认所涉布图设计相同,故本院对该此不再理涉。
本案争议的焦点问题是:被告涉案行为是否构成侵权,及若构成侵权被告应当如何承担民事责任。
本院认为,被告源之峰公司涉案行为侵犯了原告矽威公司涉案布图设计专有权,应当承担停止侵权、赔偿损失等民事责任。
根据《集成电路布图设计保护条例》(以下简称条例)的规定,集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。换言之,布图设计是指实现某一电子功能,集成在某一半导体材料的基片上的集成电路全部元件与部分或全部连线的三维配置。受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。原告涉案PT4115芯片具有独创性,获得了布图设计专有权,即对涉案PT4115布图设计享有复制权和投入商业利用的权利,该权利应当受到法律保护。
布图设计专有权的保护范围应当是确定的。根据条例规定,布图设计专有权的保护范围应当以布图设计授权文件所确定的三维配置为准。权利人所提交的布图设计的复制件或者图样,或者提交的集成电路样品均可用于确定这种三维配置。复制件或者图样附具的文字说明,可以用来解释布图设计。原告在将涉案PT4115布图设计申请保护时提交了布图设计图样和集成电路样品,并以此获得授权,故该图样或样品均可用来确定涉案布图设计专有权的保护范围,且这两者所确定的布图设计和保护范围相同。
原告指控被告接受华半公司委托制作布图设计以及销售含有该布图设计集成电路的行为均侵犯了其布图设计专有权。本院调取了用于生产1360管芯的光刻掩模版。庭审中,双方当事人同意以该光刻掩模版作为侵权对比对象。本院认为,光刻掩模版通过一定技术手段实现了布图设计图样图形的转移,用于制造管芯,其固定了管芯及封装后的集成电路的布图设计。因此,该比对方式符合法律规定,本院予以准许。后被告放弃技术鉴定,承认1360管芯的布图设计与原告PT4115芯片布图设计相同。此系被告对已方不利事实的自认,亦不违反法律规定与社会公共利益,原告认可,本院予以认定。原告还提交技术鉴定报告用以证明被告复制其涉案布图设计。被告对鉴定报告的关联性提出质疑。但是,结合被告的自认和本院上述认定,可以认定该鉴定报告内容具有可采性。技术鉴定报告认为PE6808芯片与PT4115芯片的整体布图设计及关键技术内容基本相同,上述两芯片属相同的产品。故本院认为,1360管芯与PT4115集成电路两者的元件、元件空间布局、元件连接关系、连接线路排布与走向、元件及线路的尺寸规格等等均相同,亦即两集成电路全部元件与连线的三维配置相同,1360管芯及其封装后的PE6808、6807系列集成电路与PT4115集成电路布图设计相同。被告接受委托制作的布图设计及其销售的集成电路含有的布图设计均与原告享有专有权的涉案布图设计相同。条例规定,权利人对授权布图设计享有专有权,其他任何单位或者个人未经布图设计权利人许可,不得复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分,或者为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。因此,被告依其与华半公司的协议开发1360集成电路,通过反向剖析的手段,复制了原告涉案PT4115布图设计的全部,并提供给华半公司进行商业利用,未经原告许可,其行为构成对原告PT4115布图设计专有权的侵害;同时,被告为